【机械】科创板之芯源微: 致力于光刻工序涂胶显影设备国产化

杨绍辉

沈阳芯源微电子成立于2002年，与中微半导体、北方华创、盛美半导体、上海睿励等同样耕耘10多年，致力于集成电路工艺设备国产化。公司是国内唯一一家研发与制造涂胶显影设备的企业，目前已有前道I-line涂胶显影机已在长江存储上线进行工艺验证，前道Barc（抗反射层）涂胶设备在已在上海华力上线测试应用，涂胶显影设备的进口替代已经起航。

国内集成电路工艺设备企业中，芯源微电子是定位于涂胶显影设备的唯一厂商。沈阳芯源微电子成立于2002年，和睿励、安集微电子、盛美半导体、上海微、中微半导体、北方微等老牌国产半导体设备制造商一样，诞生于同一个时代，至今已有17年经营历史和技术积淀。2016-2018年，公司分别实现主营业务收入1.44亿元、1.84亿元、2.01亿元，分别实现净利润0.05亿元、0.26亿元、0.30亿元，呈现良好发展势头。

涂胶显影设备占收入的主要部分覆盖国内外主流客户。公司主要为集成电路、LED芯片等下游客户，提供光刻工序涂胶显影设备或单片式湿法设备。2018年公司总收入中，涂胶显影设备占比61%，单片式湿法设备占比34.3%。公司集成电路客户主要包括台积电、华虹半导体、长江存储、华天科技、长电科技、通富微电等，而LED客户包括华灿光电、乾照光电等。

全球涂胶显影设备市场规模将增至25亿美元，EUV工艺是增量。根据VLSI、TEL等的预计，2022-2023年全球涂胶显影设备市场规模将达到25亿美元，相比2018年，EUV工艺是整体市场规模增量的主要来源。中国（含台湾地区）前道涂胶显影设备销售额预计由2018年的8.96亿美元，增至2023年的10.26亿美元。

国内外涂胶显影设备竞争格局：TEL处于绝对垄断。全球涂胶显影设备市场中，TEL的市占率达到87%，而DNS、SEMES、Suss MicroTec等合计占比仅为13%。TEL在中国大陆的涂胶显影设备市场中也是处于绝对垄断地位，通过取具备代表性的晶圆产线抽样统计， TEL在中国大陆涂胶显影设备市场中的市占率约超过90%，而DNS、沈阳芯源等的市占率合计不到10%。

同业比较：芯源的涂胶显影设备尚处于产业化初期。大陆半导体设备企业中，屹唐、北方微、中微、盛美2018年收入达到1-2亿美元经营规模，沈阳芯源微电子的收入仅为2亿元，表明芯源尚处于集成电路涂胶显影设备的工艺验证与产业化初期。国际上的同类型企业中，根据TEL公告推算东京电子2016-2018年的涂胶显影设备经营规模依次为12.4、14.7、18.4亿美元，相比之下芯源微电子的涂胶显影设备收入规模尚小。

芯源的涂胶显影设备已进入多条晶圆产线。通过多年的技术积累以及承担国家02重大专项，芯源已经成功掌握多种涂胶显影核心技术，并拥有多项自主知识产权。尽管芯源的涂胶显影设备尚处于产业化初期，但其前道I-line涂胶显影机已在长江存储上线进行工艺验证，可满足客户0.18μm技术节点加工工艺；前道Barc（抗反射层）涂胶设备在已在上海华力上线测试应用，可满足客户28nm技术节点加工工艺。

募投项目：拟募集资金3.8亿元。公司拟在科创板公开发行股票数量不超过2,100万股，募集资金主要用于8/12英寸单晶圆前道涂胶/显影机、8/12英寸前道单片式清洗机等产能与研发中心建设。

风险因素：大陆晶圆厂扩产不如预期；供应商供货不稳定风险。

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